Tẩy rửa bằng hóa chất + Hệ thống khử mùi bằng plasma

Ở giai đoạn đầu tiên, máy lọc hóa học trung hòa các khí có tính axit hoặc kiềm như H₂S , NH₃ và SO₂ thông qua quá trình hấp thụ chất lỏng. Giai đoạn thứ hai sử dụng plasma không nhiệt để phá vỡ các phân tử mùi hữu cơ còn sót lại thông qua các phản ứng điện tử năng lượng cao , đạt được khả năng thanh lọc và khử trùng sâu hơn.

Các tính năng chính:

• Kiểm soát mùi hai giai đoạn cho hiệu quả thanh lọc cao hơn

• Loại bỏ hiệu quả các hợp chất VOC, H₂S, NH₃, formaldehyde và lưu huỳnh

• Phản ứng nhanh mà không cần thêm chất xúc tác

• Tiêu thụ năng lượng thấp và bảo trì tối thiểu

• Cấu trúc mô-đun thích hợp cho việc trang bị thêm và khả năng mở rộng

• Vận hành an toàn với hệ thống điều khiển thông minh

Kịch bản ứng dụng:

• Nhà máy xử lý nước thải công nghiệp

• Cơ sở khử nước bùn và làm phân trộn

• Nơi lưu giữ và đốt chất thải nguy hại

• Trạm xử lý chất thải thực phẩm và hữu cơ

• Công nghiệp in ấn, hóa chất và dược phẩm